간단히 쓰면 광학은 빛(Light)의 근원, 이동, 검출을 다루는 과학이다. Light : 일반적으로는 사람의 눈으로 검지 될 수 있는 전자기 복사를 의미한다. "Electromagnetic Radiation" 빛은 아주 중요한 요소이다! 두뇌 인지과정의 주요정보는 시각으로부터 시작된다. 가령 여러분이 주변을 둘러보는 것만으로 다음과 같은 것들을 결정할 수 있다. 얼마나 많은 사람이 있는지, 내가 어디에 있는지, 여자와 남자의 분포라든지, 누가 키가 크고, 또 작은지 등. 만일 빛 이 없이 다른 감각(청각, 후각, 미각, 촉각 등)을 갖고 이런 정보를 모으려면 얼마나 오래 걸리겠는가? 한번 순간적으로 바라보는 것만으로 얼마나 많은 정보를 채울 수 있겠는지 생각해 보라! 빛을 통해 우리는 순간적으로 많은 ..

코팅의 역할 리소그래피 시스템에서 코팅은 단순한 심미적 또는 보호적 층이 아닙니다. EUV HR coating은 반사 및 투과 성능에 중요한 역할을 하므로 이러한 시스템의 전체 성능에 직접적인 영향을 미칩니다. 193 nm 파장에서 작동하는 DUV 리소그래피 시스템은 렌즈 요소를 통해 빛을 전달하는 투과 광학을 사용합니다. DUV 시스템의 코팅되지 않은 렌즈는 약 92%의 투과율을 가집니다. 나머지 8%는 렌즈의 앞면과 뒷면에 반사됩니다. 특수 설계된 반사 방지 코팅(AR 코팅)을 적용하면 이러한 반사율을 거의 0으로 줄일 수 있으므로 시스템의 효율성이 향상됩니다. EUV 시스템의 반사 광학 필요성 EUV 리소그래피 시스템의 경우 13.5nm의 훨씬 짧은 파장 때문에 상황이 다릅니다. 일단 여기에는 투과..

isotropic surface PSD 하지만 이게 최선의 방법일까요? 미광과 그 특성은 등방성 2D PSD에 의존합니다.이중 로그 플롯을 볼 때 다양한 공간 파장에 걸친 표면 거칠기는 식별하기가 쉽지 않습니다. PSD 곡선을 비교하여 거칠기의 차이를 식별할 수 있지만, 이러한 차이를 정량화하는 것은 정말 어려운 일이 될 수 있습니다. 그렇다면, 우리는 이 문제를 어떻게 해결해야 할까요?한 가지 방법은 공간 파장의 다른 간격에 대한 RMS(근 평균 제곱) 값을 평가하는 것입니다.이러한 RMS 값은 공간 파장에 걸쳐 계산할 때 표면 거칠기 품질의 정량화 가능한 측정값을 제공합니다.그리고 이러한 공간 파장에서 미광의 진행을 특성화하기 위해 TIS 공식을 사용하여 Total Integrated Scatter(..

[간단] EUV Flare와 stray light 입사 광선이 반사 방향 외에 여러 방향으로 산란된다. 산란광에 의해 발생하는 플레어로 인해 웨이퍼 표면에 수 나노미터의 크기 변화가 발생할 수 있다. EUV 시스템의 플레어는 거울의 표면 거칠기 때문에 발생한다. 플레어가 EUV 시스템에 문제가 되는 이유는 두 가지입니다. 첫째, 산란이 파장의 제곱에 반비례하기 때문에 현재 사용되는 DUV 시스템에서보다 13.5 nm EUV에서 더 두드러진다. 둘째, 반사 때문에 빛이 인터페이스를 왕복 운동한다. 산란은 파워 스펙트럼 밀도(PSD)라는 통계 신호 처리 기능으로 잡을 수 있습니다. 플레어 PSF는 점광원(Point Source)의 플레어 반응이다. 이는 커크 테스트(Kirk Test) 패턴 또는 광학계에서 ..

Matlab은 다양한, 사실상 상상하는 모든 데이터 가공 및 해석을 가능케 해주는 만능? 소프트웨어죠. 사용자의 니즈에 맞는 수치해석을 도와주는 소프트웨어가 빠르기도 하다면 얼마나 좋을까요? 이 빠르기를 정량적으로 알 수 있는 방법을 소개하겠습니다. Matlab의 성능을 알고 싶다면 Bench 명령어를 실행하면됩니다. 구문 t = bench t = bench(N) 설명 t = bench는 사용자 컴퓨터에서 6가지 벤치마킹 작업의 실행 시간을 측정하고, 그 결과를 여러 벤치마크 컴퓨터와 비교합니다. 이 함수는 다음을 수행합니다. 1. 측정한 실행 시간으로 구성된 1×6 벡터를 반환합니다 2. 벤치마크 컴퓨터의 실행 시간을 표시합니다 3. 속도를 기반으로 컴퓨터의 순위를 매긴 막대 그래프를 만듭니다 제 시스..