1. 진공 증착에 대하여

 

 

 

진공 증착

진공 증착이란 진공 중에서 금속이나 화합물을 증발시켜, 증발원과 마주 보고 있는 기판의 표면에 박막을 만드는 것을 말한다.

 

금속이나 화합물이 증발할 만큼 고온으로 하면, 대기중에서는 산화나 원하지 않는 반응이 일어나기 때문에, 그것을 억제하기 위해 진공이 필요하다.

 

또한 금속 등이 증발할 때 공간에 있는 가스 분자와 충돌하면 상대 표면에 직접 도달하지 않기 때문에, 자유 공간을 확보하기 위해 진공이 필요하다.

 

반대로 질소가스 등을 진공 용기에 약간 도입하여 공간에 질소 플라스마를 만들어, 증기로 된 티타늄 등 금속 원자와 반응시키고, 기판에 증발원에 대하여 양의 고전압을 걸어 질화티타늄 등의 이온으로 증착시키는 반응성 진공증착으로 강한 박막을 만드는 방법도 있다.

 

진공증착은 증발원으로부터 직접 증기가 날아가지만, 이온 주입법에서는 압력을 높여 이온의 평균 자유 행로를 일부러 줄임으로써, 기체 분자와 빈번하게 충돌을 일으켜 화합물을 만들고 그것을 부착시킨다.

 

[참고] 박막의 종류

1.광학박막: 물질의 광학적 특성 즉, 빛의 간섭성을 이용하여 빛의 양을 조절할 수 있는 얇은 막.

혹은 여러 층의 얇은 막계를 말한다. 광학박막의 박막 물질에 따른 종류로는 유전체 박막과 금속 박막이 있고, 그 특징에 따른 종류로는 무반사 박막계, 고반사 박막계, 편광 박막계, 비편광 박막계 등으로 나눌 수 있다.

 

2.반도체 박막: 물질의 전기적 특징을 이용한 박막.

 

3.Hard Coating: DLC 물질의 물리적․기계적 특성을 이용.

 

4.자기저장 박막: 물질의 자기적 특징을 이용한 박막.

 

 

E-BEAM 스퍼터링을 통한 증착법이다. 증발을 이용한 증착!

[참조] 박막의 제작 방법

1. Physical vapor deposition : 열 저항 증착, 전자빔 증착, 스퍼터링 등

 

2. Chemical vapor deposition

 

3. Physical liquid deposition

 

4. Chemical vapor deposition