1. EUV 개발 역사 (1) - 리소그래피의 발전 과정
Semiconductor/EUV lithography2023. 9. 28. 22:441. EUV 개발 역사 (1) - 리소그래피의 발전 과정

끊임없이 발전하는 반도체 기술 세계에서 칩에 적용되는 트랜지스터의 지속적인 성장은 신제품이 나왔다고 할 때마다. 특히 놀랍습니다. 지난 30년 동안 트랜지스터의 수는 기하급수적으로 증가하여 무어의 법칙처럼 18개월마다 약 두 배가 되었습니다. 이러한 성장과 함께 리소그래피의 중요성이 증가하고 있습니다. 리소그래피는 반도체 칩에서 더 작은 구조 및 회로 크기와 더 조밀한 오버레이를 달성하는 데 중요한 역할을 하죠. 다양한 리소그래피 기술 중에서 High NA Immersion Photo-Lithography가 시장을 이끌었지만, 더 높은 해상도와 더 큰 초점 심도가 필요함에 따라 EUVL(Extreme Ultraviolet Lithography) EUV 리소그래피라는 새로운 공정 기술이 대체 솔루션으로 등..

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