38. EUV 파장은 왜 13.5 nm 인가요?
Semiconductor/EUV lithography2023. 11. 4. 11:3838. EUV 파장은 왜 13.5 nm 인가요?

EUV가 도대체 뭐죠? EUV는 무엇이고?, EUV 파장은 왜 13.5 nm 인가요? 우선 EUV가 무엇인지부터 간단히 짚고 넘어갑시다!. 우선 EUV는 극 자외선을 의미합니다. 약 13.5 nm의 파장의 빛이며, 일반적인 자연 상태에서는 존재하지 않습니다. 인공적으로만 만들어질 수 있으며 고 에너지로써 공기에서도 흡수가 활발히 일어나기에 이를 사용하기 위해서 진공 환경은 필수적입니다. 13.5 nm 파장의 중요성 이전 포스팅에서도 설명했던 무어의 법칙이 지속되기 위해서는 반도체의 성능이 당연히 향상되어야겠죠? 반도체의 성능은 속도, 전력효율 등 여러가지 요인이 작용합니다. 이러한 성능향상 요인중에 가장 빠르게 작용하는 것이 회로의 선폭입니다. 칩의 회로를 리소그래피 공정으로 그릴 때, 빛의 파장이 작으..

8. 편향각은 무엇인가?
Optics/Ray optics2023. 10. 23. 16:258. 편향각은 무엇인가?

두개의 평면거울들의 한쪽 모서리들이 사이각을 이루고 있어 한쪽 거울 면에 입사된 광선은 다른 쪽 거울 면에 입사된 후 다시 반사되어 편향각을 가지고 진행한다. 위 그림은 거울들의 모서리 부분들에 수직인 단면들에서 광선의 경로를 보여준다. 좌측에서 입사된 광선은 사선의 거울에 반사되고 다시 하단의 거울에 입사된 후 다시 반사되어 사선거울과 평행한 각도로 향한다. 반사되어 나가는 광선은 중간 지점에서 입사된 광선과 교차된다. 이때 편향각을 구할 수 있고, 이는 입사광선의 경로선분과 나가는 광선의 경로선분의 사이 각으로 주어진다.

1. 광학이란 무엇인가?
Optics/Ray optics2023. 10. 19. 14:481. 광학이란 무엇인가?

간단히 쓰면 광학은 빛(Light)의 근원, 이동, 검출을 다루는 과학이다. Light : 일반적으로는 사람의 눈으로 검지 될 수 있는 전자기 복사를 의미한다. "Electromagnetic Radiation" 빛은 아주 중요한 요소이다! 두뇌 인지과정의 주요정보는 시각으로부터 시작된다. 가령 여러분이 주변을 둘러보는 것만으로 다음과 같은 것들을 결정할 수 있다. 얼마나 많은 사람이 있는지, 내가 어디에 있는지, 여자와 남자의 분포라든지, 누가 키가 크고, 또 작은지 등. 만일 빛 이 없이 다른 감각(청각, 후각, 미각, 촉각 등)을 갖고 이런 정보를 모으려면 얼마나 오래 걸리겠는가? 한번 순간적으로 바라보는 것만으로 얼마나 많은 정보를 채울 수 있겠는지 생각해 보라! 빛을 통해 우리는 순간적으로 많은 ..

5. EUV 개발 역사 (5) - 비구면 거울의 서막
Semiconductor/EUV lithography2023. 10. 2. 00:095. EUV 개발 역사 (5) - 비구면 거울의 서막

위 그림은 렌즈이지만, 비구면에 초점을 맞춰서 봐주시기 바랍니다. 이전 포스팅에서 이어지는 설명을 담은 포스팅입니다. 바로 미러, 특히 EUV 비구면 미러의 제작 및 개발과정에 관한 포스팅인데요. 자 알아보시죠! EUV은 흡수가 아주 잘되는 빛이기에 렌즈를 사용할 수 없고 반사를 이용해서 광을 웨이퍼에 전달해야합니다. 즉, EUV 미러죠! 하지만 거울 종류에도 여러가지가 있겠죠? 그중에서 비구면 거울을 사용합니다. 비구면 거울이 무엇일까요? 간단히 말해서 비구면 거울은 단순히 구부러진 모양이 아니라 더 복잡한 모양을 가진 특수 설계된 거울입니다. 이 복잡한 모양은 EUVL에 중요한 빛을 더 정확하게 집중시키는 데 도움이 됩니다. 1980년대 후반에 EUV 이미징 시스템용 미러를 만드는 것은 마치 벅찬 산..

4. EUV 개발 역사 (4) - 광학계 거울 구성
Semiconductor/EUV lithography2023. 10. 1. 00:054. EUV 개발 역사 (4) - 광학계 거울 구성

Aspherical-Mirror Imaging 이전 포스팅에 이어서 설명을 계속 하겠습니다. 하지만 구면거울이 가지는 수차로 인해 제조공정의 한계가 명백해지면서 비구면거울로의 전환이 불가피해졌습니다. 비구면 거울은 구면 거울과 달리 구면 수차, 즉 중심이 아닌 가장자리 근처에서 거울에 닿는 광선의 굴절 증가로 인해 발생하는 왜곡이 발생하지 않습니다. 이 속성은 EUVL과 같이 높은 정밀도가 필요한 응용 분야에서 매우 중요합니다. 1989년 NTT에서 2개 비구면 미러 이미징 시스템을 개발했습니다. 이 시스템은 리소그래피 노광 설비에 대한 세 가지 최소 요구 사항을 충족했습니다. 이미지 측면에서 텔레센트릭: 시스템은 주광선(조리개 중심을 통과하는 물체 공간의 축외 지점에서 나오는 광선)이 이미지 측면에 평..

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