11. RF Plasma에 대하여
Semiconductor/Plasma2023. 12. 11. 12:5411. RF Plasma에 대하여

DC Capacitive Charge-up Ion이 부도체의 표면에서 자유전자를 흡수하면 전자를 다시 채워주지 못한다. 없어진 전자 때문에 부도체의 표면은(+) 상태가 되고 후속으로 들어오는 Ion(+)을 밀어내게 됨, 즉 Plasma 없어짐 플라즈마 구름은 양의 가스 이온들로 구성되어 있고, 이들이 전기 절연체 표면 위에 전하를 축적함. 절연체는 DC 전압원에 연결되어 있으며, 이를 통해 표면에 전하가 축적되는 것을 나타냄. 이 과정은 절연체 표면의 정전기적 충전을 유발하고, 이는 재료의 표면 속성을 변화시키는 데 기여함. AC Capacitive Discharge (+)반파장 동안 Plasma 운으로부터 전자를 끌어옴. 표면이 “discharge”된다. (자유전자로 다시 채워짐) (-)반파장 동안 I..

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