13. EUV 개발 역사 (13) - Droplet에 대하여
Semiconductor/EUV lithography2023. 10. 10. 00:4513. EUV 개발 역사 (13) - Droplet에 대하여

이전 포스팅에서 간략하게 설명한 Sn droplet, Tin Droplet, 주석 발생기 등등 여러가지고 불리우는 droplet, 한국어로는 액적발생기에 대해서 설명하려합니다. EUV 리소그래피는 실리콘 웨이퍼에 고해상도 패턴을 만들기 위해 약 13.5 나노미터의 파장을 가진 EUV 빛의 생성에 의존합니다. EUV 빛은 주석 방울이 중요한 역할을 하는 레이저 유도 플라즈마로 알려진 프로세스를 통해 생성됩니다. 이 물방울들은 정확하게 광 수집기의 초점으로 전달되며, 여기서 CO2 레이저 펄스가 발광 플라즈마를 생성하는 데 사용됩니다. 주석 방울을 지속적이고 정확하게 전달하는 능력은 안정적이고 신뢰할 수 있는 EUV 광 발생을 달성하는 데 가장 중요합니다. 주석 표적 전달의 복잡성을 이해하는 것은 EUV 소..

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