마스크는 전사할 패턴을 미리 그려놓는 장치이다. 미리 그려놓을 패턴에 결함이 있다면 패터닝 아무리 열심히 해봤자, 결함 패턴만 패터닝 되지 않겠는가? 즉, 원판(mask)에 Defect이나 품질 불량이 있으면 모든 사진(wafer)에 전사(print) 된다. 그러니까 “원판을 최대한, 아주, 엄청나게, 하이엔드급으로 정교하게 제작하여야 한다”. 자 얼마나 정교하게 만들어야할까? 이것도 전문가들이 모여서 쿵짝쿵짝 만들어놓은 로드맵이 있다.로드맵에 따르자면... Pattern Size의 % error =(Pattern의 허용 오차)/(Pattern Size) 로 계산되는데 Gate CD control(Wafer) ~10% 정도, Mask CD control ~1.4% 정도로 Mask(원판)가 정교하여야 한다..