14. EUV 개발 역사 (14) - 오염 방지 기술에 대하여
Semiconductor/EUV lithography2023. 10. 11. 00:4714. EUV 개발 역사 (14) - 오염 방지 기술에 대하여

DGSS(Droplet Generator Steering System)는 EUV 소스 수집기의 기본 초점을 통해 주석 방울을 정확하게 안내하는 기술입니다. 여기에서 라인 레이저 모듈, 미세 범위 물방울 조정 카메라 및 큰 범위의 물방울 조정 카메라의 세 가지 구성 요소가 작동합니다. 카메라가 볼 수 있도록 물방울을 비추는 등대로 라인 레이저 모듈을 생각하시면됩니다. 이름 그대로 큰 범위의 물방울 스티어링 카메라는 광각 렌즈 역할을 하여 초기 위치 지정을 위한 넓은 시야를 제공합니다. 동시에 미세 범위 물방울 스티어링 카메라는 줌 렌즈처럼 작동하여 빔 얼라인을 위한 미세 조정을 하고 최적 좌표를 계산하고 송출합니다. 이 동적 시스템을 통해 액적 생성기를 빠르고 정확하게 조정할 수 있으며 이는 최적화된 EU..

13. EUV 개발 역사 (13) - Droplet에 대하여
Semiconductor/EUV lithography2023. 10. 10. 00:4513. EUV 개발 역사 (13) - Droplet에 대하여

이전 포스팅에서 간략하게 설명한 Sn droplet, Tin Droplet, 주석 발생기 등등 여러가지고 불리우는 droplet, 한국어로는 액적발생기에 대해서 설명하려합니다. EUV 리소그래피는 실리콘 웨이퍼에 고해상도 패턴을 만들기 위해 약 13.5 나노미터의 파장을 가진 EUV 빛의 생성에 의존합니다. EUV 빛은 주석 방울이 중요한 역할을 하는 레이저 유도 플라즈마로 알려진 프로세스를 통해 생성됩니다. 이 물방울들은 정확하게 광 수집기의 초점으로 전달되며, 여기서 CO2 레이저 펄스가 발광 플라즈마를 생성하는 데 사용됩니다. 주석 방울을 지속적이고 정확하게 전달하는 능력은 안정적이고 신뢰할 수 있는 EUV 광 발생을 달성하는 데 가장 중요합니다. 주석 표적 전달의 복잡성을 이해하는 것은 EUV 소..

image