비구면 거울의 제조가 개선되는 동안 가시광선 PMI를 사용한 미러 제작의 평가도 큰 발전을 이루었습니다. 이 기술을 통해 제조업체는 제조 공정 중과 제조 공정 후에 거울의 표면 프로필을 측정하여 품질과 일관성을 보장할 수 있었습니다. 그러나 가시광선 PMI에는 한계가 있었습니다. 고주파수 표면 거칠기를 정확하게 특성화 하기에 어려웠습니다. 그 결과, 보다 미세한 스케일로 표면 세부 사항을 측정하는 고급 기술에 대한 요구가 증가했습니다. 이러한 요구로 고주파 간섭계 현미경의 발명이 되었는데 이 장비는 나노미터 수준에서 표면 거칠기를 측정할 수 있어 가시광선 PMI의 한계에 대한 솔루션을 제공할 수 있었습니다. 그렇기에 상기 기술로 고주파 표면 거칠기를 평가하고 제어할 수 있는 길을 열었습니다. 또 다른 중..

위 그림은 렌즈이지만, 비구면에 초점을 맞춰서 봐주시기 바랍니다. 이전 포스팅에서 이어지는 설명을 담은 포스팅입니다. 바로 미러, 특히 EUV 비구면 미러의 제작 및 개발과정에 관한 포스팅인데요. 자 알아보시죠! EUV은 흡수가 아주 잘되는 빛이기에 렌즈를 사용할 수 없고 반사를 이용해서 광을 웨이퍼에 전달해야합니다. 즉, EUV 미러죠! 하지만 거울 종류에도 여러가지가 있겠죠? 그중에서 비구면 거울을 사용합니다. 비구면 거울이 무엇일까요? 간단히 말해서 비구면 거울은 단순히 구부러진 모양이 아니라 더 복잡한 모양을 가진 특수 설계된 거울입니다. 이 복잡한 모양은 EUVL에 중요한 빛을 더 정확하게 집중시키는 데 도움이 됩니다. 1980년대 후반에 EUV 이미징 시스템용 미러를 만드는 것은 마치 벅찬 산..

Aspherical-Mirror Imaging 이전 포스팅에 이어서 설명을 계속 하겠습니다. 하지만 구면거울이 가지는 수차로 인해 제조공정의 한계가 명백해지면서 비구면거울로의 전환이 불가피해졌습니다. 비구면 거울은 구면 거울과 달리 구면 수차, 즉 중심이 아닌 가장자리 근처에서 거울에 닿는 광선의 굴절 증가로 인해 발생하는 왜곡이 발생하지 않습니다. 이 속성은 EUVL과 같이 높은 정밀도가 필요한 응용 분야에서 매우 중요합니다. 1989년 NTT에서 2개 비구면 미러 이미징 시스템을 개발했습니다. 이 시스템은 리소그래피 노광 설비에 대한 세 가지 최소 요구 사항을 충족했습니다. 이미지 측면에서 텔레센트릭: 시스템은 주광선(조리개 중심을 통과하는 물체 공간의 축외 지점에서 나오는 광선)이 이미지 측면에 평..