39. High-NA APMI - LASERTEC ACTIS A300 Series (1)

 

레이저텍은 2019년에 Actinic Patterned Mask Inspection (APMI) 시스템, ACTIS를 2019년에 출시했으며, 현재까지 EUV용 Actinic 검사 솔루션 지속적으로 제공하고 있죠.

ACTIS는 EUV 포토마스크의 고해상도, 고처리량 검사에 주로 사용되는데, EUV 파장을 광원으로 사용하기 때문에 모든 EUV 마스크 결함을 검출할 수 있는 능력은 가지고 있죠.

당연하지만 EUV 광을 가지고 검사한다는게 정말 쉬운 일은 아닙니다.

EUV 소스의 종류는 다양하고, 사양도 다르고 그 특성도 다 다릅니다.

상업화된 광원을 가져온다는것도 쉽지않고 그 광원을 독자 설비에 적용하는건 더더욱 어렵거든요.

다시 돌아와서, Actinic Inspection는 일반적으로 위상 결함을 검출하는 기능으로 알려져 있지만 EUV PSM의 위상 변이 결함 검출에도 필수적입니다. 

ACTIS는 die-to-die (D2D) 및 die-to-database(DDB) 검사를 모두 수행하며 multi-die 마스크와 single-die 마스크를 포함한 모든 유형의 EUV 마스크를 검사할 수 있습니다. 유용하죠?

 

Technology nodes

 

Curvilinear masks

 

High-NA  리소그래피는 N2 이상의 기술 노드에서 EUV 공정에 사용될 것으로 예상됩니다. 차세대 ACTIS는 High-NA 를 가진 Objective mirror를 가지고 있습니다. 이를 통해 X 방향과 Y 방향이 서로 다른 해상도 특성을 가질 수 있어 High-NA  EUV 리소그래피에 사용되는 Anamorphic 패턴의 결함 검출에 필요한 감도를 충족할 수 있습니다. 또한 설계 노드가 작아짐에 따라 웨이퍼 상의 해상도 특성을 향상시키기 위해 Curvilinear masks(곡면형의 마스크)가 채택될 것이며, 이는 마스크당 많은 양의 설계 데이터를 처리해야 함을 뜻하죠.

 

고성능 컴퓨터 처리를 통해 레퍼런스 이미지를 생성하는 DDB 검사의 경우, Curvilinear masks 검사가 주요 과제입니다.

DDB 검사는 복잡한 곡선 형태를 정점의 개수가 많은 다각형을 이용하여 근사하기 때문에 곡선 마스크는 많은 양의 데이터를 생성하게 되죠. 이 말인 즉슨 Ref 이미지 생성에 더 많은 컴퓨팅 자원을 필요로 하며 처리 시간이 길어지고 더 복잡해진다는 뜻이겠죠?

 

APMI는 펠리클이 적용된 EUV 마스크의 패턴 마스크 검증을 위해 필요합니다. 하지만 펠리클의 열부하 제한으로 인한 입출력 제한으로 인해 EUV 펠리클이 적용된 마스크의 고감도 검사가 불가능 했죠.

따라서 열부하를 최소화할 수 있는 새로운 EUV 광원을 개발하였습니다. 이번 포스팅에서는 High-NA  EUV 리소그래피를 위한 차세대 ACTIS, 곡선형 마스크를 위한 ACTIS의 DDB 검사 능력, APMI 광원의 요구사항 및 Lasertec의 EUV 광원 "URASHIMA"에 대해 알아보겠습니다.

 

https://www.lasertec.co.jp/products/semiconductor/actis_a300.html

ACTIS A300シリーズ | レーザーテック株式会社