기하광학에서는 주어진 물체 점에서 나온 모든 광선이 대응되는 상점으로 정확하게 이동하는 완전광학계를 다루었다. 아래 그림에 있는 결상 광학 계를 보면 물체를 떠난 여러 광선들 중에서 일부의 광선들을 보여주는데 궁극적으로는 일부의 광선들만이 상에 도달하고 있음을 보여준다 실제 광학계는 다음의 세 가지 중요한 이유 때문에 완전하다고 할 수 없다. (i) 물체를 떠난 광선 중의 일부는 광학계에 결코 들어갈 수가 없다. 빛의 파동 적 성질에 의해 회절이 발생하게 되고 일부 광선들을 잃어버리게 되어 결 과적으로 상이 흐려지게(blurring)된다. (ii) 광학계에 들어간 광선들 중의 일부도 굴절과 난반사, 규칙반사, 흡수 등에 의해 손실 되어 상을 형성하는데 기여하지 못한다. (iii) 또한 물체 점을 출발하여..

Masking Layers : 마스킹 공정은 포토마스크, 소프트마스크, 하드마스크 등 다양한 종류의 마스크를 사용하며, 각각의 단계 또는 리소그래피의 종류에 적합하다. 1. Photomasks 는 일반적으로 광학 리소그래피에 사용되며 웨이퍼 상에 전사될 실제 패턴을 포함한다. 2. Soft masks 는 기판에 도포되고 나중에 원하는 패턴을 드러내기 위해 현상되는 포토레지스트 층을 의미한다. 3. Hard masks 는 더 부드러운 마스크가 가혹한 조건을 견딜 수 없는 에칭 공정에 사용되는 내구성 있는 마스킹 층이다. 1. Photon-based Lithography : 포토마스크를 사용하며 패턴을 전달하기 위해 UV 광을 포함하는 가장 일반적인 형태이다. 2. E-beam Lithography : 전자..

아래의 위키디피아나 다른 문헌을 찾아보면 레이저의 특성쯤이야 금방 알수 있을것이다. 레이저에 대해 나는 최대한 광학적으로 접근하는 포스팅을 할 것이다. 이런 포스팅은 잘 없더라. (물론 있긴 있음) 레이저 - 위키백과, 우리 모두의 백과사전 위키백과, 우리 모두의 백과사전. 레이저 포인터（적색[635 nm], 녹색[520 nm], 청색[445 nm]） 레이저(laser, 문화어: 레이자)는 유도방출광선증폭(Light Amplification by the Stimulated Emission of Radiation)의 머 ko.wikipedia.org LASER Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation : 원자나 분자에 의한 광의 유도방출을 이용한 ..

플라즈마 프로세스 방전 단원자 : 비활성기체(예: Ar, Ne, Hg) 가스 분자 : 2원자(H2, O2), 5원자(예: CH4, SiH4, CF4) 내부 에너지 : U 체적 V, 압력 p의 기체 : 열역학적 상태, H=U+pV XY → X + Y : 가열하여 전도에서 전기 경향이지만 다 고정 해리된다.(열해리) H2 → H + H : 2.25 X 2 = 4.5 eV SiH4 → SiH2 + H2 : 2.57 - 0.35 = 2.22 eV(열균열) SiH3 + H → SiH4 : (2.02 + 2.25) - 0.35 = 3.92 eV(열균열) 여기 반응 : e + XY → XY* + e 진동 및 회전 및 포텐셜 에너지를 갖는다. 전자 여기에너지 : 10 eV 전동 및 회전 주위에서 여기 : 0.5 eV ..

비탄성 충돌로 원자의 내부 에너지에 변화가 생긴다. 원자의 첫 번째 최외각 궤도를 도는 전자에 외부에서 다른 전자를 충돌시키는 등 에너지를 부여하면, 전자는 보다 바깥쪽의 궤도로 이동하게 된다. 즉 전자는 원래의 상태보다 큰 에너지를 갖게 되고, 다른 운동을 하게 되는 상태를 전자가 에너지를 얻어 들뜬상태(excited state)에 있다고 하며, 이와 같이 전자나 원자에 에너지를 주는 것을 여(pumping)라 한다. 여기 이전의 에너지가 가장 낮은 전자 상태를 바닥상태(ground state)라 한다. 이온화(전리) 충돌 : 쿨롱힘 안에 갇힌 전자들은 빠져나가서 전자가 충돌을 끊어내는 메커니즘 다른 입자 전자는 엑시토닉 이온 Ne 원자를 예로 하면, Pauli의 배타 원리에 의해 방대한 덩어리 전자가..